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·EVG620系列光刻机具有先进的模
块化设计，使得基本系统可升级为
片盒到片盒的全自动基片传送系统，
广泛应用于科研，教学和批量生产
等各领域的应用，其先进的光学系
统也能保证很高的曝光均匀性。EV
G光刻系统在业界享有极高的赞誉。 |
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·EVG101系列旋转/喷雾涂胶机，
是半导体业界开发最早，性能最
先进，集旋涂和喷涂于一体的产
品。其中喷雾涂胶功能特别适用
于深结构图形，使得深沟道的侧
壁及顶角能够均匀地涂胶；另外
的特点是节省胶的使用... |
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| · TRION公司RIE/ICP（反应等离子/电感耦合等离子）刻蚀系统和PECVD（化学气相沉积系统，是专门为半导体科研开发应用而设计的。其特点是：小功率的射频电源及其匹配器，单个刻蚀真空室，手动将样片装入刻蚀真空室以及手动取出样片，灵活简单的工艺菜单编辑，可对各... |
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· KDF公司（及其前身MRC）磁控溅射台系列产品，三十年来广泛
安装在世界各大知名半导体，集成电路生产线和许多科研院所，
大学教育机构。其独特的ERPP技术，有效地提高了各种材料基片
的薄膜均匀性。“KDF FOCEST CATHODE”阴极设计方案，成功地
解决了深沟槽的覆盖问题，并极大地提高了溅射速率和靶材的有
效使用率，对于贵金属材料的靶材尤其重要。 |
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