KDF900系列连续在线磁控溅射机
KDF600系列连续在线磁控溅射机
KDF700系列连续在线磁控溅射机
KDF800系列连续在线磁控溅射机
KDF 8620i 圆筒式溅射系统
KDF Ci Cluster 系统
广泛应用于半导体硅器件，无线通讯元器件，光电器件，平板显示器件，功率器件，III-V族化合物器件，微机械电子器件MEMS，3D先进封装，HB-LED(高亮度LED)和薄膜太阳能电池等广泛领域。
Apollo ICP/微波低损伤光刻胶
去除/灰化系统
Sirus T2 台式RIE刻蚀机
Phantom III ICP/RIE 刻蚀系统
Minilock III ICP/RIE 刻蚀系统
Orion III PECVD系统
Oracle III 多腔室刻蚀/沉积系统
以占地面积小 ̖ 成本低而著称，且设备及工艺的稳定性和重复性久经考验，广泛应用于于各种半导体器件的批量生产和研究开发。
Trion产品系列
高质量，高纯度流量控制系列产品
快排阀、水阀、气动阀电磁阀、气、水枪系列，用于半导体湿法腐蚀及清洗设备。
涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板
掩模版光刻/键合对准系统
基片热压键合/低温等离子键合系统
基片清洗机
基片检测系统
SOI 基片键合系统
基片临时键合/分离系统
纳米压印系统
广泛应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3维封装，纳米技术，化合物半导体器件和功率器件。
EVG产品系列
未来星宇科技
KDF产品系列
FUTURE SPEEDS TECHNOLOGIES